| 用于在二维的、快速退火的环境中直接曝光止焊漆的直接曝光装置 | |
| 马蒂亚斯·纳格尔 | |
| 2018-09-28 | |
| 著作权人 | 利玛塔有限公司 |
| 专利号 | CN108605413A |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 用于在二维的、快速退火的环境中直接曝光止焊漆的直接曝光装置 |
| 英文摘要 | 本发明一般性地涉及一种曝光装置，尤其用于对用止焊漆覆层的基底进行曝光和结构化的曝光装置(20)，以及涉及用于借助根据本发明的曝光装置(20)进行曝光的方法。尤其地，本发明涉及一种曝光装置(20)，所述曝光装置具有至少一个光束(51)，所述光束优选由不同的UV波长的两个或更多个激光束(51)形成，所述光束通过可改变的偏转装置(30)相对于基底(100)偏转，以便在基底(100)上产生结构。尤其地，为光束(51)空间上在图像平面(40)中并且时间上在曝光时将空间限制的、高能的优选外部支承的热源(10)与光束(51)叠加，其中优选使用具有行式光学装置的红外激光二极管。 |
| 公开日期 | 2018-09-28 |
| 申请日期 | 2017-01-20 |
| 状态 | 申请中 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/57015]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 利玛塔有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 马蒂亚斯·纳格尔. 用于在二维的、快速退火的环境中直接曝光止焊漆的直接曝光装置. CN108605413A. 2018-09-28. |
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