高纵横比微孔列阵的干刻工艺

	高纵横比微孔列阵的干刻工艺
	卢耀华 ; 李野 ; 端木庆铎 ; 姜德龙 ; 富丽晨 ; 田景全
刊名	长春光学精密机械学院学报
	1998-12-30
期号	04 页码:21-24
关键词	微孔列阵干刻纵横比选择比
公开日期	2013-03-11
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/31160]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	卢耀华,李野,端木庆铎,等. 高纵横比微孔列阵的干刻工艺[J]. 长春光学精密机械学院学报,1998(04):21-24.
APA	卢耀华,李野,端木庆铎,姜德龙,富丽晨,&田景全.(1998).高纵横比微孔列阵的干刻工艺.长春光学精密机械学院学报(04),21-24.
MLA	卢耀华,et al."高纵横比微孔列阵的干刻工艺".长春光学精密机械学院学报 .04(1998):21-24.