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	Recent Progress on Vanadium Dioxide Thin Film at Terahertz Range [太赫兹波段二氧化钒薄膜的研究进展]
	Zhang H.; Sha H.; Wu Z.; Jiang Y.; Wang C.; Sun Y.; Jing Q.
刊名	Cailiao Daobao/Materials Reports
	2019
卷号	33期号:8页码:2513-2523
关键词	Magnetron sputtering Phase transition Pulsed laser deposition Sol-gel method Terahertz modulator Terahertz switching Terahertz wave Vanadium dioxide thin film
DOI	10.11896/cldb.18060112
URL标识	查看原文
公开日期	[db:dc_date_available]
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4560362
专题	山东大学
作者单位	1.School of Physics and Optoelectronic Engineering, Shandong University of Technology, Zibo, 255049, China 2.School of Physics and Op
推荐引用方式 GB/T 7714	Zhang H.,Sha H.,Wu Z.,等. Recent Progress on Vanadium Dioxide Thin Film at Terahertz Range [太赫兹波段二氧化钒薄膜的研究进展][J]. Cailiao Daobao/Materials Reports,2019,33(8):2513-2523.
APA	Zhang H..,Sha H..,Wu Z..,Jiang Y..,Wang C..,...&Jing Q..(2019).Recent Progress on Vanadium Dioxide Thin Film at Terahertz Range [太赫兹波段二氧化钒薄膜的研究进展].Cailiao Daobao/Materials Reports,33(8),2513-2523.
MLA	Zhang H.,et al."Recent Progress on Vanadium Dioxide Thin Film at Terahertz Range [太赫兹波段二氧化钒薄膜的研究进展]".Cailiao Daobao/Materials Reports 33.8(2019):2513-2523.

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