共轭距可变的光刻投影物镜光学设计

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	共轭距可变的光刻投影物镜光学设计
	蔡燕民 ; 王向朝 ; 黄惠杰
刊名	中国激光
	2014
卷号	41 期号:4 页码:416003
关键词	光学设计成像系统光刻投影物镜远心光路共轭距
其他题名	Optical Design of Lithography Projective Lens with Variable Total Track
中文摘要	一种用于印刷电路板(PCB)的激光直接成像(LDI)光刻设备,需要加工高密度互连(HDI)基板的厚度变化范围为0.025~3mm,为此设计了一种共轭距可变的光刻投影物镜。采用双远心光路结构,通过压缩物方和像方远心度误差的办法,可以有效地实现共轭距变化范围达3mm。采用正负光焦度合理匹配,可以有效地在共轭距变化范围内很好地校正波像差、畸变等像差,实现良好的成像质量管理中心_期刊论文。以光刻投影物镜光学设计的具体实例,证实了通过压缩物方和像方远心度误差的办法,可以有效地获得共轭距变化一定范围的光刻投影物镜,并在该变化范围内保证实际光刻设备所要求投影物镜的成像质量管理中心_期刊论文。
英文摘要	The printed circuit board(PCB),such as the high density interconnection(HDI),can be exposed by the laser direct image(LDI)lithography tool when the thickness range of the HDI substrate is from0.025 mm to 3 mm. Accordingly,it is designed that the total track of a lithography projective lens is variable.The double telecentricity layout is used and the range of variable total track is 3 mm by reduction of double telecentricity error.The image quality of this projective lens,such as wave front error(WFE),distortion and modulation transfer function(MTF), is very good when the range of the variable total track is from0to 3 mm by the reasonable match between positive lenses and negative lenses.It is confirmed that a lithography projective lens with a variable total track is available by this method of reduction of double telecentricity error,and the image quality of this projective lens with the variable total track meet the actual requirements of the LDI lithography tool.
收录类别	EI
语种	中文
内容类型	期刊论文
版本	出版稿
源URL	[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/13670]
专题	上海光学精密机械研究所_信息光学与光电技术实验室
作者单位	1.蔡燕民, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国. 2.王向朝, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国. 3.黄惠杰, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国.
推荐引用方式 GB/T 7714	蔡燕民,王向朝,黄惠杰. 共轭距可变的光刻投影物镜光学设计[J]. 中国激光,2014,41(4):416003.
APA	蔡燕民,王向朝,&黄惠杰.(2014).共轭距可变的光刻投影物镜光学设计.中国激光,41(4),416003.
MLA	蔡燕民,et al."共轭距可变的光刻投影物镜光学设计".中国激光 41.4(2014):416003.